芬蘭KxS Technologies半導體晶圓化學監測儀
赫爾納供應芬蘭KxS Technologies半導體晶圓化學監測儀，德國總部直接采購，近30年進口工業品經驗,原裝產品,支持選型，為您提供一對一的解決方案：貨期穩定，報價，價格優，在中國設有8大辦事處提供相關售后服務。
芬蘭KxS Technologies是一家專注于工業過程測量技術研發和生產的企業。該公司提供的半導體晶圓制造用化學監測儀，主要用于半導體制造過程中各類化學藥液濃度的在線分析與控制。
一、產品類型
該品牌主要產品類型包括：
在線化學濃度監測儀
化學液混合配比控制系統
蝕刻工藝終點檢測系統
CMP slurry密度監測儀
高純化學品輸送監測系統
濕法工藝槽液濃度控制設備
二、主要型號
目前該品牌主要型號有：
DCM-10
RIM-S200
CCM-3000
SDS-500
EMM-400
SCM-200
WCM-1000
三、產品介紹
以DCM-10型號為例，該設備為在線式折射率監測儀，采用原位測量原理。通過測量液體的折射率變化來推算化學濃度，適用于多種半導體工藝藥液的實時監測。
主要技術參數：
測量范圍：1.3200-1.5300 RIU
測量精度：±0.0001 RIU
溫度補償范圍：0-100℃
過程連接：1/4" FNPT
接液材質：PTFE/哈氏合金
輸出信號：4-20mA/Modbus TCP
四、優勢特點
多化學品適應性：可測量HF、H2O2、NH4OH等多種半導體常用化學品
實時在線測量：直接安裝于工藝管道或槽體，實現不間斷監測
耐腐蝕設計：采用氟材料密封和耐腐蝕合金接液部件
溫度自動補償：內置溫度傳感器，自動校正溫度變化影響
數據通訊功能：支持標準工業通訊協議，便于系統集成
五、主要應用
CMP工藝中slurry濃度的在線監測與控制
濕法刻蝕工藝中蝕刻液濃度的實時監測
晶圓清洗過程中SC-1、SC-2等清洗液的濃度配比驗證
光刻膠去除工藝中化學藥液的活性維持
化學品配送系統的濃度校驗與質量控制
該類設備為半導體制造過程中的化學液濃度控制提供了測量手段，有助于保持工藝穩定性和產品良率。
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